Efectos de los radicales libres de oxígeno sobre la pared vascular papel del factor de crecimiento del endotelio vascular (VEGF)

Laburpena

Se estudió el efecto de los radicales libres de oxigeno (H2O2) aplicados exógenamente sobre células vasculares en cultivo (células de musculo liso y células endoteliales) y sobre fragmentos de tejido. La respuesta endotelial a la agresión oxidativa es diferente en estas células, dependiendo de la concentración del H2O2 a bajas concentraciones se manifiestan una respuesta citoprotectora, mientras que a altas concentraciones aparece citotoxicidad. En ambos tipos celulares el estrés oxidativo induce la expresión de VEGF que ejerce un papel crítico en la respuesta citoprotectora a la agresión oxidativa. En vasos enteros, la expresión del mRNA de VEGF, así como la producción de proteína se estimulan durante la incubación extracorpórea y tras la exposición a H2O2. La exposición de células endoteliales y de músculo liso vascular a H2O2 provoca movilización de calcio libre citosólico y activación de PLCgamma. En células endoteliales, el estrés oxidativo induce la expresión del VEGFR2, en forma independiente de la inducción de VEGF, sugiriendo una respuesta no regulada por el ligando. En cambio, no se detectaron cambios en la expresión del receptor VEGFR1. La expresión de VEGF autocrino es multiregulada y depende de al menos tres mecanismos de señalización intracelular, que pueden ser a su vez interdependientes: fosforilación de tirosinas, P13K/Akt y PKC. La exposición de las células endoteliales a agentes oxidantes estimula un grado notable de activación de al menos tres factores de transcripción, HIF-1, Sp-1 y NFkB.